光刻机是什么

光刻机是什么?

1、光刻机的定义

光刻机又称为掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System 。

2、光刻机的工艺流程

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、放置掩膜、曝光照射、显影、清洗等多个步骤。

3、光刻机的作用

光刻机是半导体制造中应用广泛的关键设备，主要用于将微电子芯片上的电路图案转移到硅片上。

4、光刻机的原理

光刻机利用光源照射掩膜上的电路图案，通过光学透镜等光学装置将这些图案精确印刻在硅片上。

5、光刻机的特点

光刻机根据自动化程度主要分为手动、半自动、自动。主要组成部分包括光源系统、掩膜版固定系统、曝光系统等。

光刻机作为集成电路制造产业的核心设备，在半导体制造中扮演着至关重要的角色。通过精准的曝光和显影技术，光刻机实现了电路图案的转移和制作，是实现芯片生产的关键工具之一。